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Respondida
1393467
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - FILFIN
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Tópicos avançados em microeletrônica
Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas
A
perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.
B
paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.
C
paralelas, tubo horizontal e substrato único.
D
paralelas, tubo vertical e substrato único.
E
paralelas, tubo vertical e substrato duplo.
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