Os filmes finos são usados em microeletrônica como condutores, resistores, capacitores e em revestimentos óticos em lentes. Esses filmes podem ser produzidos pela deposição de vapor químico, utilizando tetrabrometo de titânio que é evaporado e misturado com hidrogênio gasoso. A mistura é passada sobre uma superfície aquecida a aproximadamente 1300ºC. O haleto metálico sofre reação com hidrogênio para formar um revestimento de titânio metálico.

A massa máxima de titânio metálico que poderá ser produzida quando 8 mol de gás hidrogênio reagem com o tetrabrometo de titânio, considerando um rendimento de 100% no processo, é:

Dados: Massa molar (g.mol^–1): H = 1Ti = 48 Br=80