Os filmes finos têm sido utilizados em diferentes aplicações como revestimentos óticos e proteção metálica, podendo ser obtidos por meio de diferentes processos.
Os filmes de sílica (SiO2) podem ser obtidos por meio de decomposição de vapor químico. Nesse processo o tetracloreto de silício gasoso (SiCl4) reage com gás hidrogênio (H2) e gás carbônico (CO2). Além do filme de sílica são formados, como subprodutos, os gases cloreto de hidrogênio (HC\( \ell \)) e monóxido de carbono (CO).
A transformação química descrita é corretamente representada por:
