Matérias-primas alternativas como, por exemplo, Germânio e o Arseneto de Gálio, têm sido utilizadas na fabricação de dispositivos semicondutores. Entretanto, o Silício ainda é o material mais popular empregado nessa prática, pois apresenta propriedades físicas que o tornam adequado à fabricação de dispositivos ativos com boas características elétricas. Além disso, o Silício pode ser facilmente oxidado, sendo a oxidação com vapor d’água a mais rápida. Com relação ao produto principal obtido na reação de oxidação do silício com vapor d’água, da equação química exposta abaixo, não é correto afirmar que é

Si + 2H2O → SiO2 + 2H2