Magna Concursos
Questões
Planos
Entrar
Entrar
Criar Conta
Respondida
1405175
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - CQUALF
Provas
×
Tópicos avançados em microeletrônica
Assinale a alternativa que contém somente processos que retirem o fotorresiste.
A
Limpeza piranha (solução H
2
SO
4
/H
2
O
2
) e processo com plasma de oxigênio.
B
Limpeza RCA e corrosão com HCl.
C
Limpeza piranha (solução H
2
SO
4
/H
2
O
2
) e limpeza RCA.
D
Processo com plasma de oxigênio e limpeza RCA.
E
Limpeza piranha (solução H
2
SO
4
/H
2
O
2
) e corrosão com solução de HCl.
Resolver
Comentários
0
×
Cadernos
×
Flashcards
×
Estatísticas
×
Reportar um erro
×
Provas
Questão presente nas seguintes provas
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - CQUALF
50 Questões
Resolver Prova
Publicar
Responder
Qual o problema da questão?
Selecione uma opção
Questão Desatualizada
Questão Repetida
Gabarito Errado
Outros Motivos
Mensagem
Enviar
Acessar
Criar Conta
Acesse sua Conta
Google
Facebook
Esqueci minha senha
Acessar
Ainda não tem conta?
Crie uma
!
Crie uma Conta
Criar Conta
Olá, para continuar, precisamos criar uma conta!
É
rápido
e
grátis
.
Google
Facebook
Concordo com os
Termos de Uso
Criar
Já tem uma conta?
Acesse aqui
