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Respondida
1380576
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - CQUALF
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Tópicos avançados em microeletrônica
Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxido de Si, de nitreto de Si e de silício policristalino, usados na tecnologia CMOS?
A
Microscopia eletrônica de transmissão (TEM).
B
Microscopia eletrônica de varredura (SEM).
C
Microscopia de força atômica (AFM).
D
Elipsometria.
E
Perfilometria.
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