Questão 3199399

3199399 Ano: 2024
Disciplina: Engenharia Elétrica
Banca: CESPE / CEBRASPE
Orgão: LNA

Provas:

Acerca da técnica de deposição química por vapor, assinale a opção correta.

É inviável a utilização dessa técnica com filmes de óxido de silício.

A deposição química por vapor é um método de crescimento escalonável para a síntese de filmes finos.

Uma baixa razão de velocidade, em moléculas por segundo, implica uma espessura pouco controlada.

A velocidade de reação da superfície depende da pressão.

A referida técnica é ineficiente para a produção de dispositivos para aplicações em optoeletrônica.

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