Magna Concursos
1393273 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A tecnologia de fabricação de microeletrônica permite a construção de transistores de efeito de campo com tecnologia MOS (MOSFET). Com relação ao MOSFET é correto afirmar que:
I) Um PMOSFET é um MOSFET de canal P, que pode ser construído sobre um substrato tipo P, com a fonte e o dreno sendo compostos por material tipo N.
II) Um NMOSFET é um MOSFET de canal N, que pode ser construído sobre um substrato tipo P, com a fonte e o dreno sendo compostos por material tipo N.
III) Para cada valor de tensão entre a porta e a fonte (VGS), a relação entre diferença de potencial de dreno a fonte (VDS) e corrente entre estes terminais (IDS) pode ser aproximada por uma constante.
Estão corretas as sentenças:
 

Provas

Questão presente nas seguintes provas

Técnico em Eletrônica Avançada - PRFF111

50 Questões