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Respondida
1376206
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - PRDIBA
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Tópicos avançados em microeletrônica
Sobre o IR Drop e as técnicas para a minimização do seu impacto, é correto afirmar o seguinte:
A
É um efeito decorrente do alto consumo de potência pois as fontes de alimentação não suportam o alto consumo de corrente, reduzindo o nível de tensão nas células. Pode ser minimizado com um melhor planejamento das linhas de alimentação.
B
Causa uma redução na tensão de alimentação em certas regiões do chip e eleva a tensão do terra (ground bounce). Pode ser minimizado com a inserção de capacitores entre as linhas de alimentação.
C
Modifica as características dos atrasos nas células, o que incorre em resultados diferentes para a análise temporal. Pode ser resolvido adicionando diodos nas linhas de alimentação.
D
Aumenta o atraso nas interconexões devido ao aumento da carga de cada célula que é alimentada por esse sinal. Pode-se minimizar usando as camadas superiores de metalização para reduzir as resistências parasitas.
E
O aumento da resistência interna das células devido às correntes causa uma redução na tensão de alimentação das mesmas. Pode ser minimizado com o aumento da espessura dos metais de alimentação nas camadas de metalização inferiores.
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