Julgue os itens subseqüentes, relacionados à remoção de camadas de metais, isolantes e semicondutores.
A litografia por feixe de íons focados e o ataque químico seco podem ser acoplados diretamente à câmara de crescimento do sistema de epitaxia por feixe molecular, a fim de reduzir a grande densidade de defeitos na interface durante um recrescimento convencional.
