Magna Concursos
Questões
Planos
Entrar
Entrar
Criar Conta
Respondida
1385402
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - CQUALF
Provas
×
Tópicos avançados em microeletrônica
Para o processo de corrosão química de um filme de SiO
2
sobre o substrato de Si, qual solução deve ser usada?
A
Solução de ácido nítrico (HNO
3
).
B
Solução básica de amoníaco (NH
4
OH).
C
Solução de ácido fosfórico (H
3
PO
4
).
D
Solução de ácido fluorídrico (HF).
E
As soluções de ácido nítrico (HNO
3
) e ácido fosfórico (H
3
PO
4
) podem ser usadas para a corrosão do SiO
2
Resolver
Comentários
0
×
Cadernos
×
Flashcards
×
Estatísticas
×
Reportar um erro
×
Provas
Questão presente nas seguintes provas
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - CQUALF
50 Questões
Resolver Prova
Publicar
Responder
Qual o problema da questão?
Selecione uma opção
Questão Desatualizada
Questão Repetida
Gabarito Errado
Outros Motivos
Mensagem
Enviar
Acessar
Criar Conta
Acesse sua Conta
Google
Facebook
Esqueci minha senha
Acessar
Ainda não tem conta?
Crie uma
!
Crie uma Conta
Criar Conta
Olá, para continuar, precisamos criar uma conta!
É
rápido
e
grátis
.
Google
Facebook
Concordo com os
Termos de Uso
Criar
Já tem uma conta?
Acesse aqui
