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Respondida
1403184
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - IMPION
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Tópicos avançados em microeletrônica
Qual processo deve ser executado para corrigir os danos causados pela implantação de íons em lâmina de Si?
A
Oxidação térmica seca.
B
Recozimento térmico em ambiente inerte.
C
Deposição a partir da fase vapor.
D
Oxidação térmica úmida.
E
Tratamento térmico em ambiente de oxigênio.
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