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Respondida
1412569
Ano:
2012
Disciplina:
Engenharia Eletrônica
Banca:
FUNRIO
Orgão:
CEITEC
Provas:
Especialista em Tecnologia Eletrônica Avançada - FILFIN
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Tópicos avançados em microeletrônica
Uma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é
A
o mecanismo simples.
B
a elevada temperatura.
C
a alta taxa de deposição.
D
ser isento de contaminação.
E
não ter vantagens.
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