Gases se comportam como ideais quando em pressões muito baixas. A taxa de incidência das moléculas do gás residual em uma câmara de vácuo depende diretamente da pressão e é dada por

!$ \Phi={2,63\mathrm{x}10^{20}P\over\sqrt{MT}}(cm^{{-2_s}-1}) !$

onde P é dado em Pa, M é o peso molecular e T é expresso em K.

No processo de deposição do filme de Al apresentado na Questão 30 sabe-se que a pressão parcial de oxigênio na câmera era de 1 x 10^-6 Pa. As moléculas de oxigênio tem M = 32, e o número de Avogrado é igual a 6,022 x 10²³ moléculas /mol. Avalie a contaminação máxima por oxigênio no filme de alumínio depositado devido à presença do gás.