Os semicondutores de silício são criados a partir de um processo chamado “dopagem”, no qual o silício recebe impurezas para passar de isolante a semicondutor. Um semicondutor de silício pode ser do tipo “P” ou “N”, dependendo da impureza adicionada. As impurezas que devemos adicionar para produzirmos um semicondutor “N” e “P”, são, respectivamente,