Do ponto de vista do wafer, a sequência de passos no processo de fotolitografia é: aplicação do filme fotossensível, alinhamento da máscara com o wafer, exposição do fotoresiste, revelação do padrão.

O efeito da difração da luz usada para exposição com o padrão da máscara limita a resolução das estruturas.

No resiste positivo as partes não expostas são dissolvidas na revelação.

O ambiente da sala de fotolitografia é iluminado em um comprimento de onda que não interfere com o material fotossensível.