Em um laboratório multiusuário SEM/EDS/WDS e ICP-MS, é possível reduzir variabilidade de medidas entre operadores, evitar falhas repetidas e manter segurança, disponibilidade e qualidade de dados em níveis adequados.
Para isso, são adotados diversos procedimentos que devem ser seguidos por todos os usuários do laboratório.
Um dos procedimentos muito utilizados é classificar os usuários do laboratório de acordo com o seu conhecimento. Relacione o nível de usuário com as tarefas que podem executar.

N1 – Operação supervisionada
N2 - operação supervisionada avançada
N3 – operação autônoma
N4 – manutenção/administrador.

( ) No SEM: Ajustar foco e estigmador, escolher WD e apertura da objetiva, realizar EDS pontual e mapas curtos. No ICP-MS: ligar plasma por receita, correr rotinas de tuning e blank, rodar amostras de baixa periculosidade, interpretar flags simples.
( ) manutenção preventiva de bombas, atualização de software/firmware, integração de detectores, checagem de vazamento, abertura de chamados com fabricante.
( ) No SEM: trocar amostras, realizar EDS/WDS completo, flash mapping, calibração de magnificação, limpeza de aperturas. No ICP-MS: realizar sequência de calibração, correção de interferências via método documentado, realizar troca de cones e spray.
( ) Pode realizar tarefas de baixo risco: navegar amostra, ajustar foco, capturar imagem e preparar diluições padrão sem tóxicos/voláteis.

Assinale a opção que indica a relação correta na ordem apresentada:

Em um laboratório de espectrometria de massa (ICP-MS), os procedimentos de controle de EMC/EMI tem como objetivo reduzir emissões (o que seus equipamentos irradiam) e aumentar a imunidade (o quanto eles resistem a perturbações).
Uma destas práticas consiste em

Você precisa obter imagem topográfica de um polímero isolante, sem metalização, preservando detalhes finos e evitando carregamento, ou seja, o acúmulo de carga elétrica na amostra.
O conjunto de condições mais apropriado nesse contexto é

Um laboratório pretende medir variações sutis (≤0,05 ‰) em razões isotópicas de elementos metálicos (por exemplo., ¹⁴³Nd/¹⁴⁴Nd e ⁸⁷Sr/⁸⁶Sr) para estudos geocronológicos. 
Assinale a opção que descreve corretamente a escolha do sistema.

Após uma limpeza interna no rack de equipamentos do MEV, os mapas EDS (Energy Dispersive X-ray Spectroscopy) passaram a ficar deslocados em relação à imagem SE (Secondary electron) e, às vezes, cintilam durante a varredura. A imagem SE está estável, WD (working distance) está no padrão e o EDS exibe dead time (DT) dentro dos padrões. Ajustes de foco e astigmatismo não resolvem.
O procedimento que corrige este problema de integração é

Durante uma aquisição quando a tensão de aceleração dos elétrons (EHT – Electron High Tension) é igual a 10 kV, o MEV emite o alarme “ET HV ARC” e você percebe no ambiente odor de ozônio e de queimado. O vácuo da coluna está normal e não há fumaça visível.
De acordo com o manual do equipamento, o alarme “ET HV arc” está relacionado a evento de arco de alta tensão (HV) no detector Everhart–Thornley (ET) do MEV. Ou seja, houve uma descarga elétrica no circuito de HV do ET suficiente para o sistema detectar e exibir o alarme.

O procedimento a ser adotado, conforme as boas práticas de segurança nesse contexto é

Deseja-se integrar um manômetro digital a um sistema de aquisição e controle. O manômetro digital relaciona a pressão medida a um nível de tensão que é digitalizado e enviado para o sistema de aquisição. A conexão entre o sensor e o computador é feito por RS-485.
Sabendo-se que o conversor analógico digital possui uma resolução de 8 bits para digitalizar a tensão, quando a taxa de transmissão máxima é igual a 153600 bps, o número de medidas enviadas por segundo é

Calibração garante rastreabilidade, repetibilidade e incerteza conhecida. Em laboratório, pequenos desvios em eletrônica, temperatura ou ótica propagam-se para resultados e podem mascarar a deriva de instrumentos, ruído ou alinhamento. Em plataformas espectrométricas, por exemplo, só uma pequena parcela (de 1 a 2%) do aerossol realmente alcança a região analítica, o que torna qualquer erro a montante ainda mais crítico.

Deseja-se realizar um ensaio em uma fonte de alimentação DC com o objetivo de quantificar a variação da tensão de saída em função de variações da tensão de entrada (rede ou DC de alimentação).

Este ensaio é conhecido como

Em ICP-MS, o sistema de automação e controle é o conjunto integrado de sensores, atuadores, fontes (RF/HV), lógicas de intertravamento, malhas de controle e software (HMI/SCADA/LIMS) que garante segurança, ignição e estabilidade do plasma, condições de vácuo, transporte de amostra, sintonias, aquisição sincronizada e rastreabilidade metrológica.
Entre estes sistemas, está o sistema de casamento automático do gerador de RF à bobina de plasma.
O sistema de controle RF por potência refletida utiliza o Módulo 1 para amostrar, em tempo real, uma fração da potência do sinal direto (, medida pelo Sensor 2) e uma fração da potência do sinal refletido (_, Sensor 1) na linha entre o gerador e a rede de casamento. Então, calcula-se o coeficiente de reflexão e VSWR e um algoritmo aciona os atuadores do circuito de casamento (capacitores a vácuo/indutor variável) para minimizar  e manter a carga efetiva próxima de 50 . Assim, maximiza-se a transferência de potência e estabiliza-se o plasma.

O módulo 1 é um

Um SEM (Scanning electron microscopy) necessita de diferentes tipos de alimentação.
Um dos componentes que são alimentados por fontes de alta corrente é o