A técnica etch pitting é utilizada para

De acordo com a lei de Lambert, quando um feixe de luz se propaga em um material, sua intensidade decai gradualmente. Essa atenuação pode ser devido à

São materiais utilizados, frequentemente, como abrasivos para polimento de amostras metalográficas:

A microestrutura de materiais cerâmicos monofásicos policristalinos é constituída por monocristais, com tamanho, forma e orientação distintos. Na figura abaixo, tem -se a microestrutura obtida por MEV do mesmo material.

Comparando-se as imagens A, B, C e D, pode-se afirmar que

A técnica de plasma etching é utilizada para

As imagens apresentadas a seguir são de dois materiais cerâmicos de TiO2, os quais foram sinterizados a 1300oC e analisados por microscopia eletrônica de varredura, com elétrons secundários.

Considere as afirmações a seguir sobre essas duas imagens.

I A imagem A apresenta grãos bem definidos e elevado teor de fase vítrea.

II A imagem B apresenta grãos bem definidos e poros intergranulares.

III A imagem B apresenta poros intragranulares e variação no tamanho de grão.

IV As imagens A e B não apresentaram um preparo adequado para a análise de microscopia eletrônica de varredura.

Em relação a esses materiais, estão corretas as afirmações

Para realização de análise de falha em uma superfície de fratura intergranular, deve-se

A microscopia ótica pode ser utilizada para avaliar diversas características e propriedades em materiais cerâmicos. São características ou propriedades de materiais cerâmicos que podem ser obtidas por microscopia ótica:

Na preparação de amostras, são técnicas para análise em microscópio eletrônico de transmissão:

O regime de operação intermitente do microscópio de força Atômica (AFM) é caracteri zado por: