Circuitos integrados modernos, tanto analógicos quanto digitais, utilizam transistores de efeito de campo do tipo metal-óxidosemicondutor, denominados MOSFETs. A tecnologia CMOS explora o emprego simultâneo de MOSFETs de canal n (NMOS) e de MOSFETs de canal p (PMOS), tornando possível o uso de técnicas de projeto extremamente poderosas. Com respeito às etapas de fabricação de estruturas CMOS em circuitos integrados, julgue o seguinte item.

Para que ocorra o processo de dopagem do substrato de silício, é necessária a abertura (corrosão por agentes químicos) de janelas na camada de óxido previamente crescida sobre o substrato. A fotolitografia é o processo físico que possibilita a delineação precisa dessas janelas.