O implantador de íons é do tipo:

Em área classificada como espaço confinado, todos os equipamentos de segurança devem estar certificados ou possuir documento contemplado pelo Sistema Brasileiro de Avaliação da Conformidade expedido

A limpeza das lâminas é fundamental num processo de microfabricação. Para garantir uma limpeza eficaz, com a menor quantidade possível de impurezas, em geral, segue-se um processo padrão RCA (Radio Corporation of America). Esse processo consiste de uma sequência de etapas. A etapa SC1 tem como objetivo, principalmente, a eliminação de contaminantes

O uso de roupas de sala limpa pelos operadores evitam que vários contaminantes atinjam as lâminas de silício durante o processamento. Qual dos contaminantes abaixo não é bloqueado pelas roupas de sala limpa?

Num modelo de entidades e relacionamentos, as propriedades (características) que identificam as entidades são conhecidas como

Num ciclo de refrigeração por compressão de vapor, o nome do trocador de calor no qual o refrigerante tem a finalidade de absorver o calor do espaço ou substância a ser refrigerada é

Deseja-se projetar um amplificador sintonizado conforme o circuito abaixo, tendo f₀ = 1/!$ \pi !$ MHz, faixa de passagem de 3 dB igual a 10/!$ \pi !$ kHz e ganho de frequência central de -25. O FET (Field Effect Transistor – Transistor de Efeito de Campo) disponível no ponto de polarização tem transcondutância, g_m, igual a 5 mA/V e resistência de saída, r_o, igual a 10 kΩ. A capacitância da saída é desprezível. Os valores de R_L, C_L e L são, respectivamente:

Em relação ao conceito de falha, analise as afirmativas abaixo.

I – Existem, basicamente, três fatores básicos que provocam a falha de equipamentos: falha de projeto, falha na fabricação e falha na utilização.

II – Uma falha oculta é aquela que não se tornará evidente ao operador em condições normais de operação.

III – Quando a falha afeta adversamente a capacidade/qualidade de produção do equipamento, ela é classificada como falha operacional.

Uma forma sistemática de limpeza, denominada limpeza acústica, utiliza um "mecanismo suave de limpeza". O processo gera ondas sonoras que vibram os materiais. Esse processo é usado mais frequentemente nas indústrias de semicondutores, porque é menos susceptível de causar danos, especialmente para aqueles materiais sensíveis que precisam ser limpos regularmente. Os tipos mais comuns dessa tecnologia são o ultrassom e o megasonic. Qual a principal diferença entre o sistema de limpeza ultrassônica e megasonic?