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1372426 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
50 kg de silício policristalino de grau eletrônico é colocado no cadinho de um sistema de crescimento Czochralsky. A massa molar do silício é 28,09 g/mol e a massa molar do boro é 10,81 g/mol. O coeficiente de segregação do boro na interface entre o silício fundido e o sólido é 0,8.
A relação entre resistividade e concentração de impurezas está mostrada na figura abaixo.
Enunciado 1372426-1
Avalie quanto boro é necessário adicionar ao cadinho de maneira a puxar um cristal com resistividade de 1 ohm.cm.
 

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1372420 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A Curva da Banheira (Bathtube Curve) é utilizada para descrever o taxa de falhas (failure rate) de circuitos integrados. Essa curva é composta por três regiões denominadas:
 

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Assinale a alternativa que representa um dos motivos que autorizam a rescisão do contrato administrativo, na forma da Lei n. 8666/93.

 

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1372369 Ano: 2012
Disciplina: Comunicação Social
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
O conjunto de normas que rege o cerimonial e cujo objetivo é dar a cada um dos participantes, quer seja Estado, instituição ou pessoa, as prerrogativas, os privilégios e as imunidades a que têm direito denomina-se:
 

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1372365 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Quais são os mecanismos de crescimento de óxido de Si sobre substrato de Si no processo de oxidação térmica?
 

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1372358 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
A respeito dos conceitos aplicados em manutenção, relacione a coluna da direita com a coluna da esquerda.
Enunciado 1372358-1
A combinação entre as duas colunas apresenta a seguinte sequência:
 

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1372327 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Durante a fabricação de semicondutores, uma fina camada metálica (20-100 nm) pode ser depositada sobre o substrato, através da técnica de evaporação térmica. Essa camada metálica é, geralmente, constituída de Cr/Au. Dessa forma, a função da camada de cromo é a de
 

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1372214 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Qual é a técnica de limpeza tipicamente utilizada após o corte de lâminas de silício?
 

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1372190 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Assinale a alternativa que apresenta somente técnicas de isolação entre dispositivos na tecnologia CMOS.
 

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1372170 Ano: 2012
Disciplina: Engenharia Eletrônica
Banca: FUNRIO
Orgão: CEITEC
Em relação aos Controladores Lógicos Programáveis (CLP), analise as afirmativas abaixo.
I – O Módulo de Entrada/Saída oferece as conexões com os equipamentos ou os processos industriais a serem controlados.
II – O Processador contém os programas de lógica, sequenciamento e operações de Entrada/Saída.
III – O CLP é capaz de realizar operações aritméticas (adição, subtração, multiplicação e divisão).
Selecione a alternativa que responde corretamente à questão.
 

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