Quais as motivações para o emprego da implantação de íons em substituição à difusão em forno térmico?

1- Controle preciso da profundidade de junção através da energia de aceleração do feixe de íons.
2- Controle preciso da concentração de dopantes na junção através da dose de implantação de íons.
3- Permite o uso de máscara de fotoresiste, pois, normalmente, é um processo executado em temperatura ambiente.

Está (ão) correta(s) apenas a(s) afirmativa(s):

Num sistema de controle de estoque que considera a demanda determinística e constante, pode-se dizer que a quantidade econômica de compra é

Qual é a função do analisador magnético do sistema de implantação de íons?

O controle da limpeza e de contaminações é um fator de grande preocupação na fabricação dos dispositivos eletrônicos. Portanto, toda água utilizada no processo de limpeza-padrão deve ser deionizada e todos os produtos químicos utilizados devem ser de grau eletrônico (grau de pureza do produto em %). Dessa forma, a água deionizada é um produto químico muito importante usado na limpeza da lâmina e durante todo o processo de fabricação da microeletrônica. O monitoramento da limpeza com água deionizada, entre as lavagens das lâminas de silício, ocorre avaliando

Ao criar-se uma representação de uma unidade de arquivo e de suas partes componentes, quaisquer que sejam, pela apreensão, análise e registro da informação que sirva para identificar, gerir e localizar materiais arquivísticos e o contexto e sistemas de documentos que os produziram, faz-se:

A equipe de análise de projetos da empresa produtora de chips Alfa Gaúcha deve decidir sobre dois projetos de um novo produto, que têm as seguintes características:

1) O projeto PAMPA 1 tem um período de retorno de um ano e seis meses.

2) O projeto GAUDÉRIO 2 tem custo de U$ 250,000.00 com entradas previstas de caixa de U$100,000.00 no primeiro ano e de U$ 50,000.00 por trimestre a partir de então.

Qual projeto deve ser recomendado em função do período de retorno?

Difusão, na fabricação de Circuitos Integrados, refere-se à migração forçada e controlada de impurezas no substrato. O perfil de impurezas resultante, que tem papel importante no desempenho do Circuito Integrado, é afetado pela temperatura e pelo tempo de difusão. Fontes de impurezas podem ser líquidas, gasosas e sólidas e são colocadas em contato com o silício do substrato. Dentre as impurezas gasosas, as mais usadas como dopantes do tipo p e dopantes do tipo n, respectivamente, são

A figura mostra diferentes tipos de processos onde partículas incidem e são ejetadas de materiais, configurando técnicas de análise.

Aponte, dentre as alternativas seguintes, a sequência crescente correta para essas técnicas.

Precisam ser anexados e mantidos com os registros de dados ao longo do tempo, documentam o conteúdo, a estrutura e o contexto dos documentos, e têm sido amplamente adotados em todo o mundo. São chamados:

Na internet o protocolo_________ permite a transferência de mensagens eletrônicas dos servidores de _________para caixa postais nos computadores dos usuários. As lacunas se completam adequadamente com as seguintes expressões: